14.6億與7.6億

據(jù)cnBeta、環(huán)球網(wǎng)、快科技等多家媒體證實(shí)，2018年長江存儲從荷蘭阿斯麥（ASML）公司訂購的一臺光刻機(jī)已抵達(dá)武漢。這臺光刻機(jī)價值高達(dá)7200萬美元，約合人民幣4.6億元。

另據(jù)日經(jīng)亞洲評論（Nikkei Asian Review）報道，2018年中芯國際也向阿斯麥下單了一臺價值高達(dá)1.2億美元，即7.6億人民幣的EUV（極紫外線）光刻機(jī)。值得一提的是，訂單價格與中芯國際17年年凈利潤1.264億美元大致相當(dāng)。這臺機(jī)器預(yù)計(jì)將于2019年初交貨。據(jù)悉，這是中芯國際向荷蘭AMSL發(fā)出的第一張訂單。

荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w《埃因霍溫經(jīng)濟(jì)報》報道了中芯國際的這次購買

雖然是買別人的東西，但是這兩條信息還是足夠令國人興奮，畢竟這種機(jī)器咱們造不出來，人家不賣給咱們，自己的芯片制造就搞不定。

2什么是光刻機(jī)？

對于普通人來說，光刻機(jī)或許是一個陌生的名詞，但它卻是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備，每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻技術(shù)的鍛造。

圖源：知乎@中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所

簡單地說，光刻機(jī)就是把工程師的設(shè)計(jì)‘印入’基底材料，其核心技術(shù)長期被荷蘭、日本、德國等把持。

光刻機(jī)原理 圖源：知乎@看風(fēng)景的蝸牛君

光刻機(jī)是芯片制造的核心設(shè)備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)；有用于封裝的光刻機(jī)；還有用于LED制造領(lǐng)域的投影光刻機(jī)。用于生產(chǎn)芯片的光刻機(jī)是中國在半導(dǎo)體設(shè)備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機(jī)完全依賴進(jìn)口。

3ASML：現(xiàn)代芯片不可或缺的支持者

目前，光刻機(jī)領(lǐng)域的龍頭老大是荷蘭ASML。阿斯麥公司ASML Holding NV創(chuàng)立于1984年，是從飛利浦獨(dú)立出來的一個半導(dǎo)體設(shè)備制造商。前稱ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改為現(xiàn)用名，總部位于荷蘭費(fèi)爾德霍芬，全職雇員12,168人，是一家半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)計(jì)、制造及銷售公司。

阿斯麥公司已經(jīng)占據(jù)了高達(dá)80%的市場份額，壟斷了高端光刻機(jī)市場——最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)售價曾高達(dá)1億美元一臺，且全球僅僅ASML能夠生產(chǎn)。Intel、臺積電、三星都是它的股東，重金供養(yǎng)ASML，并且有技術(shù)人員駐廠，Intel、三星的14nm光刻機(jī)都是買自ASML，格羅方德、聯(lián)電等晶圓廠的光刻機(jī)主要也是來自ASML。

上面這個就是ASML光刻機(jī)的截面圖，這臺機(jī)器價值不菲。事實(shí)上中國的芯片制造商們要想量產(chǎn)7nm及其以下的工藝的芯片，就必須引入EUV光刻機(jī)。

阿斯麥公司為半導(dǎo)體生產(chǎn)商提供光刻機(jī)及相關(guān)服務(wù)，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產(chǎn)效率最高，應(yīng)用最為廣泛的高端光刻機(jī)型。

目前全球絕大多數(shù)半導(dǎo)體生產(chǎn)廠商，都向ASML采購TWINSCAN機(jī)型，例如英特爾，三星，海力士，臺積電，聯(lián)電，格芯及其它半導(dǎo)體廠。隨著摩爾定律的發(fā)展，芯片走向了7nm以下，這就需要更高級的EUV光刻系統(tǒng)，全球只有ASML的NXE:3400B能夠滿足需求。

未來，只有他的EUV光刻機(jī)能夠幫助芯片接續(xù)微縮，因此這些設(shè)備縱使賣到上億歐元，都能被客戶所接受。

接下來我們走進(jìn)ASML光刻機(jī)工廠，看看世界上最貴精密儀器出廠地。

4結(jié)語

一方面，AMSL對我們的企業(yè)商業(yè)態(tài)度轉(zhuǎn)變，由禁售到同意出售最先進(jìn)的7nm光刻機(jī)，可以預(yù)計(jì)芯片水平將繼續(xù)提升。

另一方面，我國在光刻機(jī)領(lǐng)域的進(jìn)步也是顯著的：

2018年5月，上海微電子宣布成功研發(fā)90納米的高精度光刻機(jī)，半導(dǎo)體業(yè)內(nèi)人士分析稱，攻克90納米的技術(shù)之后，拿下65和45納米就是順理成章的事了。

2018年11月31日，官方發(fā)布消息，中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制的22納米超分辨光刻裝備通過驗(yàn)收，未來將可以結(jié)合雙重曝光技術(shù)，用于制造10納米級別的芯片。

僅從精度的數(shù)據(jù)上看，我們還是落后于荷蘭ASML不少。不過，看著過往的發(fā)展速度，可以相信，未來不管是光刻機(jī)還是芯片技術(shù)都會趕上來，一步一步來。